近幾年來
原本是希望可以多多透過投資理財的方式
增加財富...
沒想到越理財越痛苦...
越投資越虧錢...........
檢視近幾年的投資方式
1.股票
2.基金
3.權證(虧最多..~><~)
4.互助會
5.完全不管放在銀行
似乎是虧錢比不虧錢的多....
所以目前暫定有幾項作法先來試試看
1.股票:只買零股(長期投資)
2.基金:固定每月定期定額只扣3~4檔基金
富坦全球債券現 --->核星基金
霸菱全球資源基金(美元) --->衛星基金
貝萊德新興市場基金(美元) --->衛星基金
貝萊德環球資產配置基金(美元)-->股債平衡
3.定存
簡簡單單地能夠長期理財我想才是最重要的
而不是讓理財困擾自己的生活..整天緊張兮兮的
2008/08/25
2008年8月25日 星期一
2008年8月14日 星期四
濕洗淨製程---PARKER化學藥劑
http://www.parkercorp.co.jp/
面板製程分為乾洗淨及濕洗淨製程
目前台灣彩色濾光片業界使用最廣泛的即為濕製程化學藥劑
化學洗劑分為兩類:有機洗劑&無機洗劑
有機系洗劑主要成分:有機鹼/TMAH 為主成分(不含金屬離子,經常用在CF製程上)
無機系洗劑主要成分:KOH/NaOH 為主成分(可能有金屬離子殘留疑慮,可用低濃度洗淨,成本效應大)
目前台灣CF業界包含:AUO,CANDO,TOPPAN,CPT,SINTEK,HSD皆使用PARKER化學洗劑,
幾乎涵蓋全台灣所有CF業界
特徴
■大型ガラス基板対応 緩衝材汚れの除去に効果大。
■優れた洗浄力 パーティクル・カレット・研磨材・指紋・レジスト残渣・有機物の除去に効果大。
■良好なリンス性 リンス性に優れ、汚れと洗浄剤成分を容易に除去可能。
■特色ある製品 アルミ対応品・無リンタイプ・低COD/BODタイプ・低発泡タイプ。
PK-LCG20/200シリーズ 系列特徴
商品名 タイプ 特徴
PK-LCG22 無機アルカリ ハードな汚れに効果大。
PK-LCG25 無機アルカリ リンス性良好。低発泡性。低COD・BODタイプ。
PK-LCG26 無機アルカリ スタンダードタイプ。
PK-LCG204 無機アルカリ ITO基板、粘着材の洗浄に効果大。
PK-LCG208 無機アルカリ 緩衝材の洗浄に効果大。
PK-LCG209 無機アルカリ 設備装置のメンテナンスに適。
PK-LCG211 無機アルカリ 研磨材除去に効果大。
PK-LCG214 無機アルカリ 紙ヤケ、緩衝材の洗浄に効果大。
PK-LCG252 無機アルカリ アルミニウム基板に適。
PK-LCG40/400シリーズ 特徴
商品名 タイプ 特徴
PK-LCG44S 有機アルカリ メタルフリータイプ。TFTに適用可。有機質等の汚れに適。
PK-LCG46 有機アルカリ パーティクルの低減に効果有り。
PK-LCG402 有機アルカリ 研磨材・カレットの洗浄に適。接触角の低下性大。
PK-LCG407 有機アルカリ メタルフリータイプ。TFTに適用可。紙ヤケ、緩衝材の洗浄に效果大
PK-LCG408 有機アルカリ 成膜基板、有機質等の洗浄に効果大。
PK-LCG451N 有機中性 アルミ基板に適。中性タイプで洗浄性大。低発泡性。
PK-LCG452N 有機中性 中性スタンダードタイプ。
PK-LCG488A 有機酸 酸性タイプ。 粘着物の洗浄に適。
PK-LCG50シリーズ 特徴
商品名 タイプ 特徴
PK-LCG51 中性 低濃度で使用でき、ランニングコストの低減が可能。
PK-LCG56 中性 液晶溶解力に優れる水溶性スタンダードタイプ。
PK-LCG58 中性 液晶溶解力に優れ、短時間で洗浄可能。
面板製程分為乾洗淨及濕洗淨製程
目前台灣彩色濾光片業界使用最廣泛的即為濕製程化學藥劑
化學洗劑分為兩類:有機洗劑&無機洗劑
有機系洗劑主要成分:有機鹼/TMAH 為主成分(不含金屬離子,經常用在CF製程上)
無機系洗劑主要成分:KOH/NaOH 為主成分(可能有金屬離子殘留疑慮,可用低濃度洗淨,成本效應大)
目前台灣CF業界包含:AUO,CANDO,TOPPAN,CPT,SINTEK,HSD皆使用PARKER化學洗劑,
幾乎涵蓋全台灣所有CF業界
特徴
■大型ガラス基板対応 緩衝材汚れの除去に効果大。
■優れた洗浄力 パーティクル・カレット・研磨材・指紋・レジスト残渣・有機物の除去に効果大。
■良好なリンス性 リンス性に優れ、汚れと洗浄剤成分を容易に除去可能。
■特色ある製品 アルミ対応品・無リンタイプ・低COD/BODタイプ・低発泡タイプ。
PK-LCG20/200シリーズ 系列特徴
商品名 タイプ 特徴
PK-LCG22 無機アルカリ ハードな汚れに効果大。
PK-LCG25 無機アルカリ リンス性良好。低発泡性。低COD・BODタイプ。
PK-LCG26 無機アルカリ スタンダードタイプ。
PK-LCG204 無機アルカリ ITO基板、粘着材の洗浄に効果大。
PK-LCG208 無機アルカリ 緩衝材の洗浄に効果大。
PK-LCG209 無機アルカリ 設備装置のメンテナンスに適。
PK-LCG211 無機アルカリ 研磨材除去に効果大。
PK-LCG214 無機アルカリ 紙ヤケ、緩衝材の洗浄に効果大。
PK-LCG252 無機アルカリ アルミニウム基板に適。
PK-LCG40/400シリーズ 特徴
商品名 タイプ 特徴
PK-LCG44S 有機アルカリ メタルフリータイプ。TFTに適用可。有機質等の汚れに適。
PK-LCG46 有機アルカリ パーティクルの低減に効果有り。
PK-LCG402 有機アルカリ 研磨材・カレットの洗浄に適。接触角の低下性大。
PK-LCG407 有機アルカリ メタルフリータイプ。TFTに適用可。紙ヤケ、緩衝材の洗浄に效果大
PK-LCG408 有機アルカリ 成膜基板、有機質等の洗浄に効果大。
PK-LCG451N 有機中性 アルミ基板に適。中性タイプで洗浄性大。低発泡性。
PK-LCG452N 有機中性 中性スタンダードタイプ。
PK-LCG488A 有機酸 酸性タイプ。 粘着物の洗浄に適。
PK-LCG50シリーズ 特徴
商品名 タイプ 特徴
PK-LCG51 中性 低濃度で使用でき、ランニングコストの低減が可能。
PK-LCG56 中性 液晶溶解力に優れる水溶性スタンダードタイプ。
PK-LCG58 中性 液晶溶解力に優れ、短時間で洗浄可能。
2008年8月7日 星期四
洗淨製程---乾洗淨UV LAMP製程
ㄧ般使用在玻璃上面的洗淨製程
分為兩種:乾洗淨或是濕洗淨製程
乾洗淨製程:
前言
使用UV是於1980年代初將光洗淨法實用化,一直到90年代以改質為目的被廣汎的應用,
由UV而產生之氧化反應,其效果依被處理物之種類而定分為洗淨和改質兩大項
而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種,其波長領域極廣,
100mm ~400mm為紫外線放射範圍,屬於UV-C範圍,因其波長短UV能量高,其值和很多有機物之化學結合之能量值相近,易起反應生成各種作用及效果,其中最具代表的作用就是洗淨.
改質對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果
光洗淨的工作原理
UV光源發射185nm和254nm光子能量,作用於被清洗物體表面,由於大多數碳氫化合物對185nm有較強的吸收能力,在吸收了185nm光子能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中性分子,這就是所謂的光敏作用。
空氣中的氧分子在吸收了254nm光子後產生臭氧O3和原子氧O。臭氧對185nm同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為氧氣O2和原子氧O。原子氧O是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物化合成可揮發的氣體:二氧化碳、氧氣和水蒸汽等逸出表面,徹底清除了粘附近在物體表面上的碳和有機污染物。
UV光洗淨-改質的優點
和一般傳統的清潔方式比較起來,這個方式的優點有:
1可以清除大部分的有機物,因此表面改質或是清潔的效果非常顯著;
2在常溫、常壓的環境中即可操作;
3和使用溶劑清潔比較起來,由於沒有廢棄溶劑的問題,因此不需要額外的廢液處理成本。
這項技術的主要的172nm的光也和185nm的光一様會生成臭氧、並有生成原子状的氧。光子的能量大,將有機結合的切斷能力高故EXCIMER Lamp可比低圧水銀Lamp生成更多的励起氧原子、使洗浄速度提高。
使用172nm光的UV/O3洗淨,主要是靠近(O(1D)) 洗淨速度和低壓水銀LAMP的情況比起來約有5倍的差。
從氮氣中的洗淨實驗來看,只在172nm光下的洗淨效果非常小。
何謂光洗淨技術
就是利用紫外光發出的特種波長 (172/185/254nm)的光子能量,對物體表面吸附的有機污染物(碳氫化合物)發生光敏氧化作用,去除粘附在上的碳氫化合物,經過光清洗的物體潔淨度,能達到一般清洗方法難以達到的清 潔度。光洗淨法對製品之良率和品質的提升確實有所幫助
光洗淨可去除之污垢
• 利用光洗淨來去除油性污垢如下所顯示般之有機性化合物即是
• 最近有報告提出和氯並用能除去重金屬或微細的塵埃
一般有機性污垢/人體皮脂 化妝品油脂/樹脂添加劑/ 焊劑/ 臘/Motor油/ 潤滑油/溶劑
1.首先184.9短波長的紫外線會將大氣中O2分子鍵切斷產生2個單氧O+ O;O(單氧)再與大氣中O2結合形成O3(臭氣)…..如圖1。
2.253.7波長的紫外線會將O3分子鍵切斷產生→O2 + O.如圖2。
3.253.7波長紫外線照射附著於被照物表面上的有機性污染物薄膜、直接破壞切斷其分子鍵。…..如圖3。
4.被破壞切斷其分子鍵有機性污染原C(碳)H(氫)化合物與O單氧分子結合成H2O與CO2、CO、NO2等揮發性物質經排氣排出於大氣中, 被照物的表面因此而潔淨如圖4。
分為兩種:乾洗淨或是濕洗淨製程
乾洗淨製程:
前言
使用UV是於1980年代初將光洗淨法實用化,一直到90年代以改質為目的被廣汎的應用,
由UV而產生之氧化反應,其效果依被處理物之種類而定分為洗淨和改質兩大項
而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種,其波長領域極廣,
100mm ~400mm為紫外線放射範圍,屬於UV-C範圍,因其波長短UV能量高,其值和很多有機物之化學結合之能量值相近,易起反應生成各種作用及效果,其中最具代表的作用就是洗淨.
改質對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果
光洗淨的工作原理
UV光源發射185nm和254nm光子能量,作用於被清洗物體表面,由於大多數碳氫化合物對185nm有較強的吸收能力,在吸收了185nm光子能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中性分子,這就是所謂的光敏作用。
空氣中的氧分子在吸收了254nm光子後產生臭氧O3和原子氧O。臭氧對185nm同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為氧氣O2和原子氧O。原子氧O是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物化合成可揮發的氣體:二氧化碳、氧氣和水蒸汽等逸出表面,徹底清除了粘附近在物體表面上的碳和有機污染物。
UV光洗淨-改質的優點
和一般傳統的清潔方式比較起來,這個方式的優點有:
1可以清除大部分的有機物,因此表面改質或是清潔的效果非常顯著;
2在常溫、常壓的環境中即可操作;
3和使用溶劑清潔比較起來,由於沒有廢棄溶劑的問題,因此不需要額外的廢液處理成本。
這項技術的主要的172nm的光也和185nm的光一様會生成臭氧、並有生成原子状的氧。光子的能量大,將有機結合的切斷能力高故EXCIMER Lamp可比低圧水銀Lamp生成更多的励起氧原子、使洗浄速度提高。
使用172nm光的UV/O3洗淨,主要是靠近(O(1D)) 洗淨速度和低壓水銀LAMP的情況比起來約有5倍的差。
從氮氣中的洗淨實驗來看,只在172nm光下的洗淨效果非常小。
何謂光洗淨技術
就是利用紫外光發出的特種波長 (172/185/254nm)的光子能量,對物體表面吸附的有機污染物(碳氫化合物)發生光敏氧化作用,去除粘附在上的碳氫化合物,經過光清洗的物體潔淨度,能達到一般清洗方法難以達到的清 潔度。光洗淨法對製品之良率和品質的提升確實有所幫助
光洗淨可去除之污垢
• 利用光洗淨來去除油性污垢如下所顯示般之有機性化合物即是
• 最近有報告提出和氯並用能除去重金屬或微細的塵埃
一般有機性污垢/人體皮脂 化妝品油脂/樹脂添加劑/ 焊劑/ 臘/Motor油/ 潤滑油/溶劑
1.首先184.9短波長的紫外線會將大氣中O2分子鍵切斷產生2個單氧O+ O;O(單氧)再與大氣中O2結合形成O3(臭氣)…..如圖1。
2.253.7波長的紫外線會將O3分子鍵切斷產生→O2 + O.如圖2。
3.253.7波長紫外線照射附著於被照物表面上的有機性污染物薄膜、直接破壞切斷其分子鍵。…..如圖3。
4.被破壞切斷其分子鍵有機性污染原C(碳)H(氫)化合物與O單氧分子結合成H2O與CO2、CO、NO2等揮發性物質經排氣排出於大氣中, 被照物的表面因此而潔淨如圖4。
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