洗淨製程---乾洗淨UV LAMP製程

ㄧ般使用在玻璃上面的洗淨製程
分為兩種:乾洗淨或是濕洗淨製程

乾洗淨製程:


前言
使用UV是於1980年代初將光洗淨法實用化，一直到90年代以改質為目的被廣汎的應用，
由UV而產生之氧化反應，其效果依被處理物之種類而定分為洗淨和改質兩大項

而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種，其波長領域極廣，
100mm ~400mm為紫外線放射範圍，屬於UV-C範圍，因其波長短UV能量高，其值和很多有機物之化學結合之能量值相近，易起反應生成各種作用及效果，其中最具代表的作用就是洗淨.
改質對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果

光洗淨的工作原理
UV光源發射185nm和254nm光子能量，作用於被清洗物體表面，由於大多數碳氫化合物對185nm有較強的吸收能力，在吸收了185nm光子能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中性分子，這就是所謂的光敏作用。
空氣中的氧分子在吸收了254nm光子後產生臭氧O3和原子氧O。臭氧對185nm同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為氧氣O2和原子氧O。原子氧O是極活潑的，在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物化合成可揮發的氣體：二氧化碳、氧氣和水蒸汽等逸出表面，徹底清除了粘附近在物體表面上的碳和有機污染物。

UV光洗淨-改質的優點
和一般傳統的清潔方式比較起來，這個方式的優點有：
1可以清除大部分的有機物，因此表面改質或是清潔的效果非常顯著；
2在常溫、常壓的環境中即可操作；
3和使用溶劑清潔比較起來，由於沒有廢棄溶劑的問題，因此不需要額外的廢液處理成本。
這項技術的主要的172nm的光也和185nm的光一様會生成臭氧、並有生成原子状的氧。光子的能量大,將有機結合的切斷能力高故EXCIMER Lamp可比低圧水銀Lamp生成更多的励起氧原子、使洗浄速度提高。
使用172nm光的UV/O3洗淨,主要是靠近(O(1D)) 洗淨速度和低壓水銀LAMP的情況比起來約有5倍的差。
從氮氣中的洗淨實驗來看,只在172nm光下的洗淨效果非常小。

何謂光洗淨技術
就是利用紫外光發出的特種波長 (172/185/254nm)的光子能量，對物體表面吸附的有機污染物（碳氫化合物）發生光敏氧化作用，去除粘附在上的碳氫化合物，經過光清洗的物體潔淨度，能達到一般清洗方法難以達到的清 潔度。光洗淨法對製品之良率和品質的提升確實有所幫助

光洗淨可去除之污垢
• 利用光洗淨來去除油性污垢如下所顯示般之有機性化合物即是
• 最近有報告提出和氯並用能除去重金屬或微細的塵埃
一般有機性污垢/人體皮脂 化妝品油脂/樹脂添加劑/ 焊劑/ 臘/Motor油/ 潤滑油/溶劑

1.首先184.9短波長的紫外線會將大氣中O2分子鍵切斷產生2個單氧O+ O；O（單氧）再與大氣中O2結合形成O3（臭氣）…..如圖1。
2.253.7波長的紫外線會將O3分子鍵切斷產生→O2 + O.如圖2。
3.253.7波長紫外線照射附著於被照物表面上的有機性污染物薄膜、直接破壞切斷其分子鍵。…..如圖3。
4.被破壞切斷其分子鍵有機性污染原Ｃ(碳)Ｈ(氫)化合物與Ｏ單氧分子結合成H2O與CO2、CO、NO2等揮發性物質經排氣排出於大氣中， 被照物的表面因此而潔淨如圖4。